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日本電子JSM-7610FPlus 熱場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡

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廣受好評(píng)的JSM-7610F的光學(xué)系統(tǒng)經(jīng)過(guò)改進(jìn),實(shí)現(xiàn)了分辨率(15kV 0.8nm、1kV 1.0nm)的進(jìn)一步提升,以嶄新的JSM-7610FPlus形象亮相。采用半浸沒(méi)式物鏡和High Power Optics照明系統(tǒng),能提供穩(wěn)定的高空間分辨率觀(guān)察和分析。

此外還具備利用GENTLEBEAMTM模式進(jìn)行低加速電壓觀(guān)察、通過(guò)r-filter分選信號(hào)等滿(mǎn)足各種需求的高擴(kuò)展性。主要特點(diǎn)如下:


◇ 半浸沒(méi)式物


半浸沒(méi)式物鏡在樣品周?chē)纬蓮?qiáng)磁場(chǎng),因而可以獲得高分辨率。


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◇ High Power Optics

High Power Optics 是電子光學(xué)系統(tǒng),既實(shí)現(xiàn)了高倍率觀(guān)察又能進(jìn)行多種分析。

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浸沒(méi)式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)梢垣@得10 倍于傳統(tǒng)肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)‵EG)的探針電流,光闌角控制鏡(ALC)在探針電流增大時(shí)也能保持小束斑,兩者組合起來(lái)能提供200 nA 以上的探針電流。強(qiáng)大的High Power Optics 系統(tǒng),高倍率圖像觀(guān)察到EDS分析和EBSD 解析可以一直使用高分辨率的小物鏡光闌而不需要改換。


浸沒(méi)式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍銃   

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浸沒(méi)式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍通過(guò)和低像差聚光鏡組合,可有效地收集從電子槍內(nèi)發(fā)射的電子。


光闌角控制鏡(ACL)

光闌角控制鏡(ACL)配置在物鏡的上方,在整個(gè)探針電流范圍內(nèi)自動(dòng)優(yōu)化物鏡光闌的角度。因此,即使照射樣品的探針電流很大,與傳統(tǒng)方式相比,也能獲得很小的電子束斑。

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即使探針電流很大,束斑直徑也很小


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長(zhǎng)時(shí)間分析時(shí)穩(wěn)定度也很高


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◇ 柔和電子束(GB:GENTLEBEAMTM)模式


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GB 模式的效果


GB 模式在低電壓下提高分辨率

左圖一般模式,右圖GB模式


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增強(qiáng)了的低加速電壓下的分辨率


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◇ r-過(guò)濾器


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◇ LABE檢測(cè)器(選配件)


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利用LABE 檢測(cè)器獲取低角度背散射電子像


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◇ 擴(kuò)展性


能譜儀(EDS)


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波譜儀(WDS)


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陰極熒光系統(tǒng)(CL)


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二次電子像分辨率 0.8 nm(加速電壓 15 kV),1.0 nm(加速電壓 1 kV )
分析時(shí) 3.0 nm (加速電壓 15 kV, WD 8 mm, 探針電流 5 nA )
倍率 Direct magnification:  x25 to 1,000,000(120 x 90 mm)
Display magnification:  x75 to 3,000,000(1,280 x 960 pixels)
加速電壓 0.1~30 kV
探針電流 數(shù) pA ~ 200 nA
電子槍 浸沒(méi)式肖特基場(chǎng)發(fā)射電子槍
透鏡系統(tǒng) 聚光鏡(CL)、  光闌角控制鏡(ACL)、  半浸沒(méi)式物鏡(OL)
樣品臺(tái) 全對(duì)中測(cè)角樣品臺(tái)、5軸馬達(dá)驅(qū)動(dòng)
電子檢測(cè)器系列 高位檢測(cè)器、 r‐過(guò)濾器 內(nèi)置、  低位檢測(cè)器
自動(dòng)功能 自動(dòng)聚焦、自動(dòng)消象散、自動(dòng)亮度/襯度調(diào)節(jié)
圖像觀(guān)察用 屏幕尺寸 23英寸寬屏
液晶顯示器  max分辨率 1,920 × 1,080像素
抽真空系統(tǒng) 電子槍室/中間室 SIP 離子泵
樣品室 TMP 分子泵

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